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| 原子力显微镜对角膜致病真菌基因芯片表面超微成像研究 |
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作者：张英朗 … 文章来源：郑州市纬五路七号 河南省眼科研究所 400003 点击数： 更新时间：2006-6-12 23:24:50 
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| 目的：应用原子力显微镜技术对角膜致病真菌基因芯片制备过程中芯片表面形态外貌及寡核苷酸片段分布进行纳米级超微成像分析。方法：对角膜致病真菌基因芯片玻片片基预处理过程中不同阶段和不同参数条件下，片基表面形态外貌及寡核苷酸片段排列方式和分布程度进行原子力显微镜实时超微扫描成像，观察片基处理过程中不同参数条件对寡核苷酸探针固定和杂交效率的影响，分析原子力显微镜超微扫描成像的均方根值及片基形态外貌特征和寡核苷酸片段在片基表面的分布排列方式的关系，通过对杂交结果的比较，确定最佳参数条件和该条件下片基表面形态外貌特征及寡核苷酸片段分布排列特点。结果：在最佳参数条件下片基表面存在大量柱状或锥状基团，基团曲率半径较小，分布均匀面积较大，具有较大的均方根值，片基与寡核苷酸探针之间共价键作用力大，寡核苷酸片段呈线状排列，分布较均匀折叠重复现象较少，探针固定率和杂交效率高。结论：原子力显微镜技术能够对角膜致病真菌基因芯片表面超微结构进行纳米级扫描成像，显示片基表面三维形态外貌及寡核苷酸片段的排列方式和均匀程度，在基因芯片制备过程中可作为体系优化的重要评估手段。 |
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| 会议投稿录入：zhangyl 责任编辑：毛进 |
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